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深紫外激光PEEM系統在石墨烯研究中取得新進展

鉅大LARGE  |  點擊量:1817次  |  2018年05月30日  

  近日,大連化學物理研究所納米與界面催化研究組(502組)金立、傅強和包信和等研究人員與中科院金屬所成會明研究員領導的研究小組合作,利用本組新近研制的深紫外激光光電子發射顯微鏡(DUV-PEEM)系統對單層石墨烯生長過程和結構進行了研究,并成功發現,在Pt表面上利用化學氣相沉積法(CVD)生長得到的毫米大小的單層石墨烯中,具有凹角邊界的石墨烯片層為多晶結構,存在不同的晶格取向,而只有凸角邊界的石墨烯片層則具有完美的單晶結構。該方法作為一個重要的判據,確證了利用CVD方法能得到大面積、單層、單晶石墨烯。該成果近日發表在《自然-通訊》NatureCommunications上(Nat.Commun.3:699doi:10.1038/ncomms1702(2012))。

  我所深紫外激光光發射電子顯微鏡(PEEM)研制是國家重大科研裝備研制項目(“深紫外全固態激光源重大科研裝備研制”)資助下獲得的重要成果,在世界上首次利用深紫外激光作為激發光源,成功獲得高空間分辨PEEM圖像(分辨率<5nm),同時裝備場發射電子槍,實現低能電子顯微成像(LEEM)和低能電子衍射(LEED)的功能,能夠對固體表面進行化學、形貌和結構的原位動態表征。

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